Моделирование процессов, протекающих в оксидно-силикатных системах при воздействии плазмы, с целью улучшения качества покрытий

Проведено моделирование высокотемпературных процессов, протекающих в оксидно-силикатных системах при воздействии плазмы. Исследования выполнены с помощью плазмотронов, используемых в практике аналитической химии при осуществлении атомно-эмиссионного анализа. Выбор этих источников обусловлен более простой методологией изучения взаимодействия плазмы с поверхностью твердого материала. Для уточнения выявленных высокотемпературных механизмов проведено термодинамическое моделирование с помощью программного комплекса "Астра". Табл. 2, ил. 5, библиогр.: 4 назв.